发光性能稳定的量子点复合转光材料及制备其的磁控溅射法.pdfVIP

下载本文档

0
0
约1.88万字
约 11页
2023-04-21 发布于四川
举报
版权申诉

发光性能稳定的量子点复合转光材料及制备其的磁控溅射法.pdf

1、本文档共11页，其中可免费阅读10页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明的目的在于提供一种发光性能稳定的量子点复合转光材料包括基底和沉积于基底表面的包覆膜，基底为内部填充有量子点的聚硅氧烷微球，包覆膜为采用磁控溅射法成型。本发明采用单晶硅、金属钛、金属铝或上述物料中的任意组合作为靶材，以O2、N2作为反应气体，可以生成SiO2、TiO2、TiN、TiCN、Al2O3成膜物质中的至少一种，进而可以形成由两种以上上述成膜物质的复合沉积构成的包覆膜。上述包覆膜在起到增强基底耐候性的同时又基本不会影响其原本的的发光性能。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113897192 A (43)申请公布日 2022.01.07 (21)申请号 202111183589.X (22)申请日 2021.10.11 (71)申请人佛山