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本发明实施例公开一种阵列基板及其制作方法、液晶显示面板以及显示装置。在一具体实施例中，制作方法包括：在栅极绝缘层上形成有源层薄膜和源漏电极层薄膜；在源漏电极层薄膜上形成光刻胶，包括完全保留区域和部分保留区域；进行第一次湿法刻蚀，得到第一源漏电极层薄膜；对光刻胶进行灰化处理，使完全保留区域在衬底上的正投影与第一源漏电极层薄膜在衬底上的正投影边缘重合；对有源层薄膜进行第一次干法刻蚀，露出栅极绝缘层；进行第二次湿法刻蚀；去除完全保留区域；以及有源层薄膜进行第二次干法刻蚀。该实施例的制作方法在2W2D工
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113889434 A
(43)申请公布日 2022.01.04
(21)申请号 202110582280.1
(22)申请日 2021.05.27
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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