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一种低折射率疏水性SiO2图形化蓝宝石衬底的制备方法，利用溶胶凝胶法制备SiO2溶胶，在蓝宝石衬底上旋涂溶胶后热处理使其形成低折射率疏水性SiO2薄膜，接着在其上均匀涂布一层紫外正向光刻胶，然后进行曝光和显影工艺，最后通过ICP干法刻蚀工艺得到低折射率疏水性SiO2图形化蓝宝石衬底，其光输出功率和亮度均有显著提高。相较于常规SiO2‑PSS衬底和常规PSS衬底，低折射率疏水性SiO2图形化蓝宝石衬底的LEE分别提高15％和45％。此外，具有很好的疏水性能，能够避免光刻胶出现脱胶现象，可省去涂胶前
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113937199 A
(43)申请公布日 2022.01.14
(21)申请号 202111052745.9
(22)申请日 2021.09.08
(71)申请人 福建中晶科技有限公司
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