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本发明提供一种VDMOS器件及其制造方法，所述器件包括结构相同的元胞单元；各元胞单元构成元胞水平结构；所述元胞水平结构，包括：若干个并列的源区，和围绕各所述源区的栅极区；各所述栅极区于延伸方向上交汇重叠形成栅极交汇区，其余的形成栅极非交汇区；于所述栅极交汇区设有分隔区；于所述元胞单元对应所述栅极非交汇区设有JFET区；于所述元胞单元对应所述分隔区设有JFET隔断区；所述JFET隔断区处不同导电类型的掺杂离子浓度差大于所述JFET区处浓度差，使栅极交汇区于斜线方向上的耗尽层易于扩展，从而耗尽层更易
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113937167 A
(43)申请公布日 2022.01.14
(21)申请号 202111224609.3
(22)申请日 2021.10.20
(71)申请人 杭州芯迈半导体技术有限公司
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