控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机.pdfVIP

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2023-04-22 发布于北京
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控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机.pdf

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本发明公开了控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机，直写式光刻机包括空间光调制器件，方法包括：获取原始光刻图形；获得用于本次曝光的形变后光刻图形，并提取其中的第二特征图形数据单元；查询预存的数据仓库；确定数据仓库中存在同类型的目标形变后光刻图形；将第二特征图形数据单元与数据序列中的第三特征图形数据单元进行比对；确定存在与第二特征图形数据单元可相互替换的目标第三特征图形数据单元，将对应的空间光调制器件所需数据转换为第二特征图形数据单元对应的空间光调制器件目标数据；控制直写式光刻机的空间光调制器件。本

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113934115 A (43)申请公布日 2022.01.14 (21)申请号 202111235304.2 (22)申请日 2021.10.22 (71)申请人合肥芯碁微电子装备股份有限公司