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本发明提供能够以简单的构造抑制从高温的基板向真空密封部、机构部的热的影响的真空输送装置和基板处理系统。在真空中输送高温的基板的真空输送装置包括:主体部,其包括真空密封部和在内部具有机构部的臂部;基板保持部,其与所述主体部连接,用于保持基板;热输送构件,其设于所述主体部的表面,由沿面方向的热导率比构成所述主体部的材料的沿面方向的热导率高的材料构成,用于输送从所述基板传递至所述基板保持部的热;以及散热部,其对在所述热输送构件中输送来的热进行散热。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113937043 A
(43)申请公布日 2022.01.14
(21)申请号 202110767249.5
(22)申请日 2021.07.07
(30)优先权数据
2020-1206
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