一种套刻误差的测量计算方法.pdfVIP

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2023-04-22 发布于四川
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一种套刻误差的测量计算方法.pdf

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本发明提供一种套刻误差的测量计算方法，包括：按预置偏离量设计第一光罩和第二光罩，用于制成测试链；获取N条对应不同的所述预置偏移量的测试链，N≥3；测量所述N条测试链的电性参数，以得到的电性参数与对应的所述预置偏移量作为一组参考数据；对所述参考数据进行数据分析，计算得到所述第一光罩和所述第二光罩的套刻误差值。基于电学测量获取套刻误差值，易于实现且得到的结果更接近于真实的套刻误差；便于对工艺进行实时监控，有利于及时调整生产工艺，推进产品良品率持续提高。此外本发明的方法还能够适用于在半导体芯片制作完成

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113917802 A (43)申请公布日 2022.01.11 (21)申请号 202111191680.6 (22)申请日 2021.10.13 (71)申请人杭州广立微电子股份有限公司