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本发明涉及半导体加工技术领域,公开了一种微动台气浮支撑装置,包括基座、能够在基座上悬浮的气浮模块、以及位于气浮模块上的连接结构,气浮模块用于支撑连接结构,连接结构用于支撑微动台;气浮模块包括外部框架、调节框架及负压调节板;负压调节框架通过若干个调平螺栓与外部框架相连接;外部框架的外侧设有正压进气孔和负压进气孔,外部框架的下端设有正压排气孔集群;外部框架的中部设有负压腔体,负压腔体的上端设有通槽,负压调节板位于通槽处并与通槽之间密封,负压腔体的边缘还设有与负压排气腔连通的负压排气孔。本发明实施例通
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113917795 B
(45)授权公告日 2022.04.29
(21)申请号 202111110621.1 (56)对比文件
(22)申请日 2021.09.22
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