一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置.pdfVIP

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2023-04-23 发布于北京
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一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置.pdf

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本发明公开了一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，首先基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；基于抑制光空间光调制器产生抑制用多光束空心光斑；然后将多光束实心光斑与多光束空心光斑合束产生调制后的多光束光斑；再基于多通道声光调制器输出刻写波形，位移台匀速移动直到完成一整列区域刻写，关闭光开关，位移台进行一次步进移动；直到所有图形刻写完成。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113960891 A (43)申请公布日 2022.01.21 (21)申请号 202111248686.2 (22)申请日 2021.10.26 (71)申请人之江实验室地址