一种接近接触式曝光装置.pdfVIP

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2023-04-23 发布于北京
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本发明属于光刻设备技术领域，具体涉及一种接近接触式曝光装置。用于将掩模图形接近式曝光或接触式曝光至工件上，包括：照明匀光系统，用于产生接近式曝光或接触式曝光所用均匀平行光；工件台，与照明匀光系统相对设置，用于放置工件；掩模版，设置在照明匀光系统与工件台之间，设置有掩模图形；透光膜，针对均匀平行光具有高透光性，设置在工件与掩模版之间，用于隔离工件所涂覆光刻胶与掩模版。本发明通过在掩模版与工件上的光刻胶之间增加一张超薄的透光膜，将掩模版和光刻胶隔离开，然后再采用接触式或接近式曝光方式，解决了现有接近

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113960894 A (43)申请公布日 2022.01.21 (21)申请号 202111267783.6 (22)申请日 2021.10.29 (71)申请人智慧星空（上海）工程技术有限公司