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一种基于激光加热、水浴加热、化学作用共同辅助的小球头磁流变抛光方法，涉及磁流变抛光方法的技术领域，解决了小球头磁流变抛光的去除效率较低，导致抛光加工产量少、成本高的问题，磁流变液是一种非牛顿流体，其温度越高，粘度越低，流动时自身的阻力越小，因此产生了通过水浴加热和激光辐照共同提高抛光区域的磁流变液温度，从而降低粘度、改善抛光区域中的磁流变液流动性的加工方法；同时，针对熔石英材料的零件，可以使用化学作用辅助磁流变抛光，通过化学作用去除抛光区域的零件材料，能够进一步提高抛光效率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 114012512 B
(45)授权公告日 2022.08.16
(21)申请号 202111273827.6 B24B 55/00 (2006.01)
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