一种超分辨激光直写与成像方法及装置.pdfVIP

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2023-04-24 发布于北京
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一种超分辨激光直写与成像方法及装置.pdf

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本发明公开了一种超分辨激光直写与成像方法与装置，该装置包括三个光源，分别为引发光刻胶产生聚合反应的激发光光源，激发光刻胶中发光的荧光染料分子从基态到激发态的激发光，抑制光刻胶聚合并同时使荧光染料分子产生受激辐射的抑制光光源或损耗光光源，抑制光与损耗光为同一个光源。其中，引发光刻胶聚合的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚成圆形实心光斑；抑制光经过准直后，再通过相位掩膜调制相位，最后由物镜汇聚到样品面上形成环形空心光斑；光刻胶中荧光染料的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚形成圆形实心光斑

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114019764 A (43)申请公布日 2022.02.08 (21)申请号 202111240495.1 (22)申请日 2021.10.25 (71)申请人之江实验室地址 3