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本申请公开了一种阵列基板及其制备方法和显示面板,阵列基板包括衬底、晶体管层和平坦层,所述衬底包括相邻设置的像素区和非像素区,所述晶体管层设置于所述衬底上,且位于所述非像素区,所述晶体管层包括氧化物半导体层和绝缘部,所述平坦层设置于所述衬底以及所述晶体管层上。在本申请中,通过将绝缘部设置非像素区,减少了像素区上与衬底以及平坦层堆叠的膜层及不同折射率的膜层的堆叠,从而减小了膜层对光的吸收以及降低光在不同膜层之间的反射,从而提高了光的透过率,从而提高了阵列基板的性能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114023767 A
(43)申请公布日 2022.02.08
(21)申请号 202111248400.0
(22)申请日 2021.10.26
(71)申请人 TCL华星光电技术有限公司
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