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本发明提供一种同时鉴定碳碳双键异构体的双键位置和顺反异构的方法,包括如下步骤:1)将含不饱和双键和顺反异构结构的底物、含羰基的反应试剂和光催化剂溶于溶剂中搅拌均匀得待检测溶液;2)步骤1)得到的待检测溶液在可见光的激发下进行光照反应,得到反应产物;3)将步骤2)所得反应产物注入质谱中,经色谱分析和离子源离子化后,进一步经CID碎裂得到特征碎片离子;4)对步骤3)得到的特征碎片离子进行分析,反向推导出不饱和双键的位置;5)对底物和反应产物的色谱行为进行分析和对比,推导出不饱和双键的顺反异构结构。其
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 114019043 B
(45)授权公告日 2022.08.09
(21)申请号 202111268326.9 G01N 30/72 (2006.01)
(22)申请日 2021.10
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