一种硅基垂直腔面发射激光器.pdfVIP

下载本文档

1
0
约5.91千字
约 6页
2023-04-24 发布于北京
举报
版权申诉

一种硅基垂直腔面发射激光器.pdf

1、本文档共6页，其中可免费阅读5页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明公开了一种硅基垂直腔面发射激光器，包括单晶Si衬底，在Si衬底的上表面按照层状叠加结构从下至上依次设置有多层复合结构缓冲层和III‑V族VCSEL激光发射单元。单晶Si衬底的上表面为纳米柱结构，多层复合结构缓冲层由二维BN层、III‑V族化合物和GaAs量子点循环生长组成。本发明利用多层复合结构缓冲层材料特性，可以减小III‑V族VCSEL激光发射单元受到的失配应力，改善材料晶体质量，提升硅基激光器的光电性能。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114024210 A (43)申请公布日 2022.02.08 (21)申请号 202111303687.2 (22)申请日 2021.11.05 (71)申请人电子科技大学中山学院