可降低掩膜复杂度的光学临近修正掩膜优化方法.pdfVIP

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2023-04-24 发布于北京
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可降低掩膜复杂度的光学临近修正掩膜优化方法.pdf

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本发明属于芯片制造领域，提出了可降低掩膜复杂度的光学临近修正掩膜优化方法。该方法提出了一种用于光学临近修正的可以对抗偏差的新型损失函数。在考虑了打印误差和工艺偏差环的影响之外，引入一项代表掩膜与目标图像的偏差来规范掩膜的几何特征，通过对解空间添加限制，在掩膜的图像生成质量和复杂度之间取得更好地平衡；对工艺偏差建模优化，产生的掩膜版能更有效对抗工艺偏差。优化芯片制造掩膜版，使得光刻之后的图案有较高的保真度。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114019761 A (43)申请公布日 2022.02.08 (21)申请号 202111270835.5 (22)申请日 2021.10.29 (71)申请人智腾科技股份有限公司