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2023-04-25 发布于北京
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[课题]本发明提供一种研磨液，与使用仅溶解有通过水解显示出碱性的有机盐的水溶液作为研磨液的情况相比，该研磨液可提高研磨速率，并且不含有金属。[解决手段]本发明提供一种研磨液，其是使用将磨粒固定于垫中而成的固定磨粒研磨垫对晶片的一个面进行研磨时所使用的研磨液，其中，该研磨液溶解有通过水解显示出碱性且不含有金属的有机盐、以及不含有金属的有机碱，并且不含有磨粒。优选的是，有机盐由强碱的阳离子和弱酸的阴离子构成，有机碱包含氨、胺以及碱性氨基酸中的一种以上。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114058329 A (43)申请公布日 2022.02.18 (21)申请号 202110855336.6 (22)申请日 2021.07.28 (30)优先权数据 2020-1292