一种化学机械抛光用CeO2研磨颗粒的制备方法及其应用.pdfVIP

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2023-04-25 发布于四川
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一种化学机械抛光用CeO2研磨颗粒的制备方法及其应用.pdf

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本发明公开了一种化学机械抛光用CeO2研磨颗粒的制备方法，包括以下步骤：步骤一、按照摩尔比1:(5～30)称取铈盐和熔盐，在坩埚中研细、混合、干燥；步骤二、将步骤一中经混合、干燥后的混合盐置入管式气氛炉中以1～5℃/min的升温速率升温至700～800℃焙烧，保温2～4h，保温结束后以1～5℃/min的速率降温至室温，将反应后的产物用去离子水清洗获得的沉淀即为CeO2纳米颗粒；将该方法制备的CeO2纳米颗粒配置成CeO2基化学机械抛光液适用于氧化硅制品的高效抛光中，该制备方法具有选用原料廉价、制

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114032034 A (43)申请公布日 2022.02.11 (21)申请号 202111511606.8 (22)申请日 2021.12.06 (71)申请人陕西科技大学地址