一种图形化衬底的制备方法和匀胶系统.pdfVIP

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2023-04-26 发布于北京
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一种图形化衬底的制备方法和匀胶系统.pdf

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本发明实施例公开了一种图形化衬底的制备方法和匀胶系统。该图形化衬底的制备方法包括：依次在多个平片衬底上匀胶光刻胶层；对多个平片衬底上的光刻胶层进行膜厚检测，获得膜厚参数；根据光刻胶层的膜厚参数，对多个平片衬底进行分类；采用匀胶后的平片衬底所属类型对应的曝光参数，对每片平片衬底的光刻胶层进行曝光显影，和/或，采用匀胶后的平片衬底所属类型对应的刻蚀参数，对黄光制程后的平片衬底进行刻蚀。本发明实施例解决了现有制备工艺所制备的不同成品片微结构图形差异较大的问题，能够避免光刻胶层厚度差异对图形结构的影响，

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114078991 A (43)申请公布日 2022.02.22 (21)申请号 202010849930.X (22)申请日 2020.08.21 (71)申请人东莞市中图半导体科技有限公司