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一种气体流量调节装置和调节方法及等离子体处理装置,气体流量调节装置包含气体挡板和设置在气体挡板上的多个可升降隔离组件,隔离组件对底板与安装基板之间形成的圆形气体分配区域和环形气体分配区域的面积进行动态调节,从而使圆形气体分配区域和/或环形气体分配区域对应的区域的等离子体处理速率与其他区域达到一致。本发明可以适用于不同的化学气体环境和不同的气体比例,令不同的气体分配区域面积对应不同的化学气体环境和不同的气体比例,大大提高了对等离子体处理速率进行调节的灵活性、灵敏度和准确性,提高了等离子体处理速率的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114093739 A
(43)申请公布日 2022.02.25
(21)申请号 202010858525.4
(22)申请日 2020.08.24
(71)申请人 中微半导体设备(上海)股份有限公
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