一种光刻系统、基片交接系统及曝光方法.pdfVIP

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2023-04-26 发布于北京
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一种光刻系统、基片交接系统及曝光方法.pdf

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本发明涉及一种光刻系统、基片交接系统及曝光方法，所述光刻系统包括对位机构、曝光机构和工作台，所述工作台包括至少两个容置槽，所述容置槽用于承载基片，所述对位机构用于对置于所述容置槽的基片进行对位处理，所述曝光机构对置于所述容置槽的基片进行直写曝光处理。所述基片交接系统包括片库、预处理台、中转台、上片机械手、中转机械手，所述上片机械手在所述片库、所述预处理台和所述中转台之间转移基片，所述中转台放置对应于所述工作台放置预处理完成的基片，所述中转机械手同时抓取预处理完成的基片放置于所述工作台。提高曝光，

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114077162 A (43)申请公布日 2022.02.22 (21)申请号 202010808518.3 (22)申请日 2020.08.12 (71)申请人苏州源卓光电科技有限公司