半导体工艺设备.pdfVIP

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2023-04-26 发布于北京
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半导体工艺设备.pdf

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本发明提供一种半导体工艺设备，包括：工艺腔室，具有工艺腔，工艺腔包括用于生成等离子体的发生腔和用于处理晶圆的加工腔；过滤结构及直流电源，过滤结构包括第一过滤部，第一过滤部设置在发生腔与加工腔之间，且具有用于连通发生腔和加工腔的多个第一通孔，第一过滤部由导电材料制成，直流电源与第一过滤部电连接，且通过直流电源向第一过滤部上施加负电压，当等离子体经过第一过滤部时，通过多个第一通孔对等离子体进行过滤，且在负电压的作用下等离子体中的至少部分离子发生复合，以降低过滤后进入加工腔的等离子体中的离子数目。上述

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114078685 A (43)申请公布日 2022.02.22 (21)申请号 202111362116.6 (22)申请日 2021.11.17 (71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司