一种提升返工片效率的工艺.pdfVIP

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2023-04-26 发布于北京
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一种提升返工片效率的工艺.pdf

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本发明涉及一种提升返工片效率的工艺，所述工艺包括以下步骤：对返工片依次进行去PSG处理、抛光处理和蚀刻处理。本发明通过去PSG、抛光、蚀刻和二次制绒等工艺，将返工片表面的金字塔型的绒面削除，可以消除硅片表面绒面对重新制绒时的影响，改善返工片的光吸收，增加返工片的Isc，从而提高返工片的转换效率、优质率，将返工片转换效率提高了0.12％，返工片优质率提高了30％。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114093984 A (43)申请公布日 2022.02.25 (21)申请号 202111360971.3 (22)申请日 2021.11.17 (71)申请人横店集团东磁股份有限公司