基板处理设备的腔体清理方法.pdfVIP

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2023-04-26 发布于北京
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基板处理设备的腔体清理方法.pdf

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根据本发明示例性实施例的腔体清理方法包含用于将基板传送到腔体外并处理腔体的内部的腔体稳定制程。薄膜沉积制程已经于基板上完成。腔体稳定制程包含清理制程及涂布制程。清理制程用于将清理气体注入到腔体中，并侵蚀及清理薄膜沉积制程所产生的多个副产物。涂布制程用于将包含铝(Al)、锆(Zr)和铪(Hf)中的至少一者的气体注入到腔体中，并于腔体的一内壁及安装在腔体内的多个元件的至少一表面上产生一保护膜。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114097059 A (43)申请公布日 2022.02.25 (21)申请号 202080046163.7 (74)专利代理机构北京信慧永光知识产权代理