半导体零部件、复合涂层形成方法和等离子体反应装置.pdfVIP

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2023-04-26 发布于北京
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半导体零部件、复合涂层形成方法和等离子体反应装置.pdf

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本发明涉及等离子体刻蚀的技术领域，公开了一种半导体零部件、复合涂层形成方法和等离子体反应装置，包括零部件本体，所述零部件本体表面具有复合涂层，所述复合涂层包括耐等离子体腐蚀涂层和防水牺牲层，所述耐等离子体腐蚀涂层设置于所述零部件本体表面；所述防水牺牲层设置于所述耐等离子体腐蚀涂层表面。在耐等离子体腐蚀涂层的表面涂覆一层防水牺牲层，避免耐等离子体腐蚀涂层与水接触，大大降低耐腐蚀涂层因水解失效的风险，可缩减清洗、运输、储存或投入使用的时间，大大提高等离子体刻蚀生产的效率，降低刻蚀成本。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114078679 A (43)申请公布日 2022.02.22 (21)申请号 202010819097.4 (22)申请日 2020.08.14 (71)申请人中微半导体设备（上海）股份有限公