一种减少光反射损失的单晶硅片制绒方法.pdfVIP

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2023-04-26 发布于北京
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一种减少光反射损失的单晶硅片制绒方法.pdf

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本发明公开一种减少光反射损失的单晶硅片制绒方法，包括：(1)将氢氧化钾溶液与双氧水混合得到溶液A，将硅片在溶液A中清洗去除表面脏污；(2)将氢氧化钾溶液与制绒添加剂混合得到溶液B，将硅片在溶液B中腐蚀形成金字塔绒面；(3)将氢氧化钾溶液与双氧水混合得到溶液C，将硅片在溶液C中清洗去除表面残留物；(4)将HF与HCl混合得到溶液D，将硅片在溶液D中继续去除表面残留物，营造酸性环境；(5)将硝酸银溶液、氢氟酸和双氧水混合得到溶液E，将硅片在溶液E中离子腐蚀，在金字塔表面形成纳米级的坑洞；(6)将氢氧

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114093960 A (43)申请公布日 2022.02.25 (21)申请号 202111286568.0 (22)申请日 2021.11.02 (71)申请人江苏