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本发明提供了一种真空规保护系统，包括RPS设备、回填真空规、控制阀和控制模块，RPS设备用于给反应腔室提供等离子体气源；回填真空规与反应腔室连；控制阀用于使回填真空规和反应腔室连通或断开；控制模块分别与RPS设备和控制阀连接，控制模块用于控制RPS设备的开关和控制阀的开关，当所述控制模块控制所述RPS设备打开时，所述控制模块控制所述控制阀关闭；当所述控制模块控制所述RPS设备关闭且氟离子含量小于等于预设阈值时，所述控制模块控制所述控制阀打开，以连通所述回填真空规和所述反应腔室。本发明解决了氟离子
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114136534 A
(43)申请公布日 2022.03.04
(21)申请号 202111665983.7
(22)申请日 2021.12.30
(71)申请人 拓荆科技股份有限公司
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