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本发明涉及表面处理技术领域,具体涉及一种提高有机基体上金属化薄膜形核均匀性的方法,包括步骤如下:(1)选用厚度和粗糙度合适的聚合物作为基材;(2)对基膜依次采用无水乙醇和去离子水超声波清洗,时间均为1~3min,吹干备用;(3)对基膜进行等离子体预处理,使用空气作为反应气体,气压为10~20Pa,离子源功率为20~45W,处理时间为1~15min;(4)在预处理后的基膜上继续沉积金属膜。该方法可显著提升沉积粒子的形核密度,有利于形成均匀致密的金属化薄膜。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114150263 A
(43)申请公布日 2022.03.08
(21)申请号 202111491280.7
(22)申请日 2021.12.08
(71)申请人 安徽工业大学
地址
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