一种半导体工业用靶材及其制备方法.pdfVIP

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2023-04-27 发布于北京
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一种半导体工业用靶材及其制备方法.pdf

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本发明公开了一种半导体工业用靶材，包括以下重量份原料：锗10‑20份、碲5‑10份、硒4‑10份、改性膨润土分散剂1‑2份、修饰剂1‑6份、稀土剂改性石墨粉1‑3份、硅粉30‑40份。本发明半导体工业用靶材制备中，采用锗、碲、硒等原料配比而成，添加的改性膨润土分散剂、稀土剂改性石墨粉经过修饰剂处理后，作为预处理添加剂应用到产品中可显著改进产品的性能，继而使原料的致密度、收缩度改进。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114150277 A (43)申请公布日 2022.03.08 (21)申请号 202111273585.0 (22)申请日 2021.10.29 (71)申请人广州市尤特新材料有限公司