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本发明公开了一种具有高翻转效率的磁隧道结及其制备方法，其中，磁隧道结包括依次叠加的固定层、势垒层和自由层，并采用高能粒子轰击或离子注入处理自由层的侧壁形成环状牺牲层，牺牲层垂直于势垒层设置。制备方法包括：提供衬底，在衬底上形成有磁隧道结，磁隧道结包括依次叠加的固定层、势垒层和自由层；在自由层的上方制作掩膜，基于掩膜对自由层向下刻蚀至预设位置；采用高能粒子轰击或离子注入处理自由层的侧壁形成牺牲层；基于掩膜继续向下刻蚀至贯穿磁隧道结；去除掩膜。通过在磁隧道结刻蚀后的自由层侧壁形成牺牲层，降低刻蚀损伤
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114156404 A
(43)申请公布日 2022.03.08
(21)申请号 202111321333.0
(22)申请日 2021.11.09
(71)申请人 中电海康集团有限公司
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