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本发明涉及一种超高电容MEMS封装载板及其制作工艺,所述制作工艺包括如下步骤:开料、内层线路:进行压干膜、曝光、显影、蚀刻和退膜处理、压合、机械钻孔、镭射钻孔及填孔、外层线路:进行压干膜、曝光、显影、蚀刻和退膜处理、阻焊和成型;通过上述制作工艺得到的埋容四层板具有相互并联的双层电容层,因此具有超高的电容密度,从而极大地提升了PCB产品电容值,使得产品性能得到了明显的提高。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114195090 A
(43)申请公布日 2022.03.18
(21)申请号 202111444168.8
(22)申请日 2021.11.30
(71)申请人 江苏普诺威电子股份有限公司
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