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本发明提供一种半导体工艺腔室,包括腔体、基座和导气结构,导气结构包括上导气件和下导气件,上导气件的上导气腔用于由基座的四周接收气体,且其底部形成有环形开口,下导气件的底部与排气口601连通,下导气件的顶部具有多个将上导气腔与下导气件的下导气腔连通的导气通孔,下导气腔中设置有与导气通孔一一对应的多个导气组件,导气组件能够使气体通过导气通孔由上导气腔流入下导气腔的最小流通截面积随导上下气体之间的压差增大而减小。在本发明中,上导气腔通过多个开度随上下气体压差增大而减小的导气组件与下导气腔连接,从而在各
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114196942 A
(43)申请公布日 2022.03.18
(21)申请号 202111430718.0
(22)申请日 2021.11.29
(71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司
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