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本申请提供了一种FRD结构及其制作方法和应用。其中,FRD结构包括衬底和覆于衬底的终端环形场氧化层,终端环形场氧化层沿衬底的周缘环形设置,终端环形场氧化层围成对应于衬底的中间位置的源区;FRD结构还包括P‑阱区和多个P+阱区,P‑阱区覆于衬底且位于源区,多个P+阱区均覆于P‑阱区且均嵌入P‑阱区,多个P+阱区相互间隔,以形成至少一个泄放通道,泄放通道相对的两端均与终端环形场氧化层衔接;泄放通道用于引导FRD结构的雪崩电流至源区的中间位置。本申请中,雪崩电流主要通过泄放通道流向源区的中间位置,使得
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114203829 A
(43)申请公布日 2022.03.18
(21)申请号 202111444615.X
(22)申请日 2021.11.30
(71)申请人 深圳
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