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本发明提供了一种伪栅平坦化方法,包括步骤:刻蚀形成包括伪栅层、第一掩模层和第二掩模层的初始伪栅结构,并使第一掩模层的材料和第二掩模层的材料不同;对第二掩模层进行改性以得到改性掩模层,使所述改性掩模层和所述第一掩模层在后续的化学机械平坦化工艺中的刻蚀速度基本一致;形成阻挡层和填充层;采用化学机械平坦化工艺去除部分所述填充层、部分所述阻挡层、所述改性掩模层、所述第一掩模层和部分所述伪栅层,以得到若干高度相同的伪栅结构。使得能够克服前程不同初始伪栅结构高度差带来的负载效应,得到更高精度平坦化效果,以得
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114203539 A
(43)申请公布日 2022.03.18
(21)申请号 202111516185.8
(22)申请日 2021.12.07
(71)申请人 上海集成电路装备材料产业创新中
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