一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用.pdf

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本发明公开了一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用，涉及剥离剂技术领域。按质量份数计，光刻胶剥离液包括二环脒类化合物20‑60份、缓冲试剂1‑10份和有机溶剂40‑80份。相比TMAH等体系的光刻胶剥离液，通过改进光刻胶剥离液的有机碱组成，利用DBN和DBU等二环脒类化合物作为有机碱，其既具有强碱的性能，也具有抗蚀剂的效果，有效改善了光刻胶剥离液含水量高造成的剥胶后残胶多、金属层腐蚀严重的问题，在半导体领域和面板显示领域有着良好的应用及市场前景。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114217513 A (43)申请公布日 2022.03.22 (21)申请号 202111548778.2 (22)申请日 2021.12.17 (71)申请人北京盛剑微电子技术有限公司