互连结构的制作方法.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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互连结构的制作方法.pdf

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本公开实施例提供一种互连结构的制作方法，包括：依次形成覆盖基底的第一介质层、蚀刻停止层和第二介质层；在对准基底中电连接结构的位置，形成贯穿第二介质层的凹槽；其中，凹槽的底部暴露蚀刻停止层；从凹槽的底部形成贯穿蚀刻停止层和第一介质层的通孔，以显露电连接结构；在形成通孔的同时，形成贯穿第二介质层和蚀刻停止层的盲孔；在通孔中形成与电连接结构电连接的导电柱，并在盲孔中形成支撑柱。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114220768 A (43)申请公布日 2022.03.22 (21)申请号 202111406798.6 (22)申请日 2021.11.24 (71)申请人长江存储科技有限责任公司