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2023-05-04 发布于北京
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废气处理系统.pdf

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本发明提供涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种废气处理系统，包括反应装置和氮氧化物处理装置，氮氧化物处理装置包括第一反应腔和催化组件，催化组件设置于第一反应腔内，反应装置包括第二反应腔、降温腔和降温喷头，降温喷头设置于降温腔内，第二反应腔的出口与第一反应腔的进口通过降温腔连通。利用第二反应腔排出的高温气体，通过控制降温喷头的工作，可以控制气体在催化反应时所需要的温度，节约了催化反应需要再次升温的能量消耗。还可根据不同的催化剂，通过降温腔将带有氮氧化物的气体调整至不同的温度，满足不同催化剂进行催化

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114210197 A (43)申请公布日 2022.03.22 (21)申请号 202111321232.3 B01D 53/90 (2006.01)