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本发明涉及提高InAlN/GaN高电子迁移率晶体管电学性能的方法,该方法在不改变器件结构和材料组分的情况下,通过使用双(三氟甲烷)磺酰亚胺对已经制备完成的InAlN/GaN高电子迁移率晶体管进行表面处理,即在空气环境下将InAlN/GaN高电子迁移率晶体管置于特定浓度的TFSI溶液中浸泡一定的时间,溶液中的氢离子会中和InAlN势垒层中的部分极化电荷,降低极化库仑场散射,从而提高InAlN/GaN高电子迁移率晶体管二维电子气迁移率及器件性能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114361035 A
(43)申请公布日 2022.04.15
(21)申请号 202111558290.8
(22)申请日 2021.12.20
(71)申请人 山东大学
地址 25
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