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多通道光谱滤光片中间腔层的制备方法，属于光学滤光片、光学薄膜技术领域，本发明将一种稳定性好、透明度高的负性光刻胶旋涂在光谱滤光片的高反射膜堆上，作为光谱滤光片的中间腔层，然后采用激光直写的方法对旋涂的光刻胶进行一次性台阶式曝光，形成大小、不同厚度且阵列式周期排列的中间腔层，实现对滤光片多个光谱通道的峰位调控。该方法利用旋涂的光刻胶代替了传统的利用镀膜方式制备的介质材料作为中间腔层，还利用激光直写台阶式曝光代替了传统的采用多次或者组合曝光与薄膜刻蚀相结合制备多通道滤光片中间腔层的方法，可以大大简化
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114325912 A
(43)申请公布日 2022.04.12
(21)申请号 202111665330.9
(22)申请日 2021.12.31
(71)申请人 长春悟泰投资合伙企业（有限合伙）
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