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一种晶体生长动态温场调节装置，包括炉体、加热感应圈、坩埚和籽晶提拉杆，顶部连接单晶提拉机构，还包括：保温罩，立放于炉体上方，底部与炉体形成生长腔，其上设置有将生长腔连通至外部的炉孔和贯通孔，炉孔提供籽晶提拉杆垂直活动空间；环形反射器，设于生长腔内与单晶同轴且位于单晶溶液上3‑20mm，用于控制单晶与单晶溶液接触面的温度梯度；随动杆，下端通过贯通孔，后连接环形反射器，上端连接随动机构，随动机构被配置为控制环形反射器在单晶溶液上的高度。本发明的突出优势在于可在现有的生长炉上进行升级改造，改造难度和成
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114318505 A
(43)申请公布日 2022.04.12
(21)申请号 202210012625.4
(22)申请日 2022.01.07
(71)申请人 江西匀晶光电技术有限公司
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