阵列基板及其制备方法.pdfVIP

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2023-05-06 发布于北京
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阵列基板及其制备方法.pdf

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本发明提供了一种阵列基板及其制备方法。所述阵列基板包括第一走线层、第二走线层、绝缘膜层以及空气层。所述阵列基板具有交叠区，所述第一走线层和所述第二走线层在所述交叠区中交叠。所述空气层设于所述第一走线层与所述第二走线层之间的绝缘膜层中，并位于所述交叠区中。由于所述空气层的介电常数低于所述绝缘膜层的介电常数，从而降低交叠区中第一走线层与第二走线层之间膜层的电介质常数，进而降低交叠的走线之间所产生的寄生电容。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114335013 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202111597068.9 (22)申请日 2021.12.24 (71)申请人 TCL华星光电技术有限公司