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本申请提供一种全彩Micro‑LED及其制备方法和显示装置,该全彩Micro‑LED制备方法在单色Micro‑LED阵列上键合镂空金属层,在镂空金属层内设置量子点。该方法仅采用单色Micro‑LED阵列,良品率高;通过使用镂空金属层作为量子点的结构层,金属层镂空操作简易,金属做为量子点之间的隔离墙,一方面可以防止量子点之间发生光串扰,另一方面金属起到反射光的作用,使量子点发射的光不会发生散射,量子点发光更强,提高蓝光利用率。该制备方法通过先将镂空金属层键合到单色Micro‑LED阵列上,再在镂空
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114335264 A
(43)申请公布日 2022.04.12
(21)申请号 202111652383.7
(22)申请日 2021.12.30
(71)申请人 深圳
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