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本发明提供一种光刻胶特性参数的测量装置及方法,测量装置包括光源,滤光片,聚光镜,扩束镜,衰减片,涂有光刻胶的基片,第一光电探测器,第二光电探测器,夹持工具和计算机,从光源发射的光经滤光片过滤后通过准直扩束系统照射到衰减片上,经过衰减片的光照射到涂有光刻胶的基片上,衰减片和涂有光刻胶的基片放置在基片夹持工具上,光通过夹持工具的窗口后分别照射到第一光电探测器和第二光电探测器上,第一光电探测器、第二光电探测器收集光强变化的信号传输到计算机上,通过光强的分析可以计算出光刻胶的特性参数。本发明可以同时测量
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114324258 A
(43)申请公布日 2022.04.12
(21)申请号 202111630550.8
(22)申请日 2021.12.28
(71)申请人 中国科学院光电技术研究所
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