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本发明涉及晶片清洁设备技术领域,具体为一种快捷的晶片清洁工艺,包括工作箱,所述工作箱包括壳身以及壳盖,所述壳身顶端设置工作槽,所述壳盖底端与工作槽侧壁对应位置设置安装槽,所述安装槽侧壁设置限位装置,所述壳盖底端设置调节槽,所述调节槽内滑动设置调节块,所述调节槽槽底左右两侧分别设置螺纹杆,所述调节块顶端与螺纹杆对应位置设置螺纹孔,所述螺纹杆通过螺纹配合伸入螺纹孔内,所述壳盖顶端与螺纹杆对应位置设置调节电机,所述调节电机输出端与螺纹杆连接,通过搅拌杆以及搅拌电机的设置,便于带动清洗液流动,将脱离晶片
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114308863 A
(43)申请公布日 2022.04.12
(21)申请号 202111584638.0
(22)申请日 2021.12.22
(71)申请人 广州
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