光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法.pdfVIP

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2023-05-07 发布于北京
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光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法.pdf

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本发明公开一种光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法，所述转印母模的制造方法包括：于金属滚筒的外表面涂布一负光阻层；通过第一波长光源穿通过至少一个光罩形成二维图形化光源照射于负光阻层；使得负光阻层显影后形成多个压印图形，进而使得负光阻层和金属滚筒构成一转印滚轮；通过转印滚轮滚压于一母模基材表面的光硬化材料层，而于光硬化材料层形成多个转印微结构；通过第二波长光源照射使得光硬化材料层固化，而使得光硬化材料层和母模基材构成一转印母模。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114371597 A (43)申请公布日 2022.04.19 (21)申请号 202011098673.7 (22)申请日 2020.10.14 (71)申请人光群雷射科技股份有限公司