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一种抗微生物口罩,其包含产生单线态氧的光敏染料,其中所述染料是阳离子酞菁。优选地,酞菁具有以下化学式:(化学式1),M=铝、钛或锌,R=R’(a)或R”(b),R’=氧连接的苯基或吡啶基、R”=氧连接的苯基、吡啶基或N‑烷基化吡啶鎓,并且a+b=4,b=1至4,X=Cl‑、Br‑、I‑、甲烷磺酸根、乙烷磺酸根、甲酸根、醋酸根或其它无机的或有机的反离子或其混合物;并且其中吡啶氮上的烷基化是任选支化的C1‑C8烷基。进一步任选地,其中烷基链是羟基化的或氟化的。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114375317 A
(43)申请公布日 2022.04.19
(21)申请号 202080048593.2 (74)专利代理机构 北京品源专利代理有限公司
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