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提供了一种非易失性存储器件和一种非易失性存储系统。所述非易失性存储器件包括上绝缘层。第一基板位于所述上绝缘层上。上层间绝缘层位于所述第一基板上。多条字线在第一方向上堆叠在所述第一基板上,并延伸穿过所述上层间绝缘层的一部分。下层间绝缘层位于所述上层间绝缘层上。第二基板位于所述下层间绝缘层上。下绝缘层位于所述第二基板上。虚设图案由填充材料构成。所述虚设图案设置在形成于所述第一基板和所述第二基板中的至少一者中的沟槽中。所述沟槽形成在所述上绝缘层与所述第一基板相接的表面和所述下绝缘层与所述第二基板相接的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114388031 A
(43)申请公布日 2022.04.22
(21)申请号 202111082481.1
(22)申请日 2021.09.15
(30)优先权数据
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