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本发明提供一种等离子体处理装置,能够提高等离子体的面内均匀性。等离子体处理装置具有腔室、第一下部电极、第二下部电极、第一上部电极、第二上部电极以及第一电源。第一下部电极设置于腔室的内部,所述第一下部电极具有用于载置基板的基板载置区域。第二下部电极配置于基板载置区域的外侧的区域。第一上部电极与基板载置区域相向地配置。第二上部电极配置于第一上部电极的外侧的区域,并与第二下部电极相向地配置。第一电源向第一下部电极供给具有周期性的信号。第二下部电极和第二上部电极中的至少一方具有凹部。第二下部电极或第二上
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114388329 A
(43)申请公布日 2022.04.22
(21)申请号 202111194324.X
(22)申请日 2021.10.13
(30)优先权数据
2020-1773
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