半导体器件几何方法和系统.pdfVIP

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2023-05-07 发布于北京
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半导体器件几何方法和系统.pdf

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描述了用于预测与图案化过程相关联的衬底几何形状的系统和方法。接收包括图案的几何形状信息和/或过程信息的输入信息；以及使用机器学习预测模型来预测多维输出衬底的几何形状。所述多维输出信息包括图案概率图像。基于所述图案概率图像，可以预测随机边缘放置误差带和/或随机失效率。所述输入信息包括模拟空间图像、模拟抗蚀剂图像、目标衬底尺寸、和/或来自扫描器的与半导体器件制造相关联的数据。例如，不同的空间图像可以对应于与所述图案化过程相关联的抗蚀剂层的不同高度。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114402262 A (43)申请公布日 2022.04.26 (21)申请号 202080061323.5 P ·尼科尔斯基　 (22)申请日 2020.07