位移测量装置和光刻设备.pdfVIP

下载本文档

0
0
约1.78万字
约 13页
2023-05-07 发布于北京
举报
版权申诉

位移测量装置和光刻设备.pdf

1、本文档共13页，其中可免费阅读12页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明提供一种位移测量装置和一种光刻设备。所述位移测量装置的读头模块内设置有至少一个光束合光元件以及若干反向回射元件，第一入射光束和第二入射光束相对于衍射元件的法线方向分别以第一角度和第二角度照射到所述衍射元件的不同位置，所产生的衍射光经读头模块引导，进入至少一个所述光束合光元件，获得相应的输出光束，所述输出光束被用于获得衍射元件的位移信息。由于第一入射光束和第二入射光射可以非平行入射到所述衍射元件来获得初始的衍射光束以及相应的输出光束，提高了入射光束的角度容差，具有宽角度适应的优点，有助于减小

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114384763 A (43)申请公布日 2022.04.22 (21)申请号 202011126453.0 (22)申请日 2020.10.20 (71)申请人上海微电子装备（集团）股份有限公